Machine de galvanoplastie de film mince de vide / équipement de dépôt de pulvérisation de couche mince

N ° de modèle: JTL pour Revêtement de film mince sous vide PVD Revêtement: Revêtement sous vide Certification: CE, ISO, SGS Type 1: Revêtement de film mince sous vide PVD Structure: Verticale, Revêtement simple Couleur: Or, Rosegold, Argent , Service Ect: Installation, formation, service après-vente Technique de revêtement: pulvérisation cathodique magnétron + revêtement ion-ion Marque déposée: HCVAC Spécification: 1250 * 1500mm, 1400 * 1600mm, 1600 * 1800mm Code SH: 85433000 Type: Revêtement de film mince de vide PVD Condition: Nouveau nom: Film de revêtement d'équipement de dépôt de pulvérisation de couche mince: Étain, Tic, Ticn, Tialn, Crn, Cu, Au etc. Système d'exploitation: Revêtement automatique de contrôle d'écran de PLC: Acier inoxydable , Céramique, Verre etc. Marque: Hcvac, Dongguan, Chine Paquet de transport: Conteneur de 20ft ou de 40ft Origine: Chine, Machine de placage à couche mince de vide de PVD de Guangdong / équipement mince de déposition de pulvérisation l'évaporation des ions, combinant la source d'ions et la tension de polarisation des impulsions. C'est un contrôle automatisé complet lors du revêtement de films. Le revêtement sera une bonne adhérence, anti-rayures. \ N \ nLe principe du revêtement ionique à arc électrique sous vide est basé sur une cathode froide, une évaporation plasma autodéchargée, un matériau d'ionisation, combinant une technique de polarisation pulsée pour particules déposées, et améliorer les propriétés de revêtement. Il peut déposer des revêtements à la surface du métal ainsi que des non-métaux. \ N \ n \ n \ n \ nIndustries appliquées: Il est largement utilisé dans le bracelet, le boîtier de montre, les bijoux, la coque mobile, le matériel, la vaisselle, etc. Il peut revêtir TiN, TiC, TiCN, TiAlN, CrN, Cu, Au, films Il peut obtenir une finesse et un film lisse, une bonne adhérence. Effet de Samplescoating! \ N \ n \ n \ n \ nLes experts en revêtements de votre entreprise: Solution complète pour la production de revêtements. \ n \ nLe HCVAC peut vous aider à pénétrer facilement le revêtement PVD grâce à notre machine de revêtement sous vide et à notre gamme complète. Nous fournirons la technologie la plus adaptée à vos besoins. \ N \ nNous allons fabriquer la solution de revêtement spéciale pour chaque client; Combinez l'ensemble des techniques de production pour répondre à vos besoins, afin de garantir une efficacité élevée de la production. \ N \ n \ n \ nFacile à implémenter \ n \ nPour beaucoup de personnes peu familiarisées avec le processus, la technologie de revêtement PVD semble compliquée. Cependant, avec les bons investissements et un bon support, c'est plus facile que prévu. HCVAC a mis au point un procédé de revêtement clé en main qui facilite la mise en œuvre d'un centre de revêtement PVD. Un processus de revêtement complet comprend plusieurs étapes: Décapage (en fonction de l'historique de la pièce); Prétraitement; Contrôle de qualité; Nettoyage et séchage; Fixturing & inspection visuelle; Revêtement PVD; Contrôle qualité et mesure d'épaisseur et post-traitement (en fonction de l'application). Ces étapes sont toutes disponibles auprès d'un seul partenaire: HCVAC Technology, y compris des techniques et des revêtements matures. \ N \ nNous avons développé un système complet après-vente et des mesures de service efficaces. La société possède désormais une équipe de service après-vente professionnelle composée de plus de dix ingénieurs expérimentés. La norme ISO 9001 garantit que la qualité peut répondre aux exigences du client. N'hésitez pas à nous contacter pour de plus amples informations! : Lillian Yang \ n \ nMobile: 0086-13825720037 \ n \ nSpécifications:

Mode Dimension	JTL-900	JTL-1100	JTL-1250
	900*1000mm	1100*1000mm	1250*1100mm
Coating mode and main confirguration	Six multi-arc targets + one set of column targets + one set of plane rectangle magnetron sputtering targets	Six multi-arc targets + a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets	Twelve multi-arc targets + two sets of  plane rectangle magnetron sputtering targets+ a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets
Power source	Electric arc power, DC magnetron power, MF magnetron power, filament power, pulse power, linear ionized source.
Process gas control	Quality flowmeter + electromagnetism ceramic valve
Vacuum chamber structure	Vertical single(side) door, pump system postposition, double water-cooling
Vacuum system	Molecule pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10 -5 Pa) Diffusion pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10 -4 Pa)
Workpiece baking temperature	Normal temperature to 350 centi-degree PID control, radiation heating.
Workpiece motion mode	Public rotation Frequency control: 0-20 rotation per minute
Measure mode	Number display composite vacuum gauge: from atmosphere to 1.0*10 -5 Pa
Control mode	Manual/Automatic/PC/PLC + HMI/PC  four choice of control mode
Remark	We can design the dimension of the equipment according to customer's special technique requirement.

Groupes de Produits : Machine de revêtement sous vide à ions multiples