Machine de revêtement de PVD de plasma / machine d'enduit de vide de plasma / machine de dépôt de vide de plasma

N ° de modèle: JTL-0910, JTL-1110 Revêtement: Certification de revêtement sous vide: CE, ISO, SGS Type 1: Plasma PVD Structure de revêtement: Verticale, porte à une porte : Installation, formation, service après-vente Technologie de revêtement: pulvérisation cathodique magnétron + revêtement ion-ion Marque: HCVAC Spécification: 1250 * 1500mm, 1400 * 1600mm, 1600 * 1800mm Code SH: 85433000 Type: Plasma PVD Substrat: : Nouveau nom: Plasma Film de déposition de film de déposition sous vide: Etain, Tic, Ticn, Tialn, Crn, Cu, Au etc. Système d'exploitation: PLC Revêtement de contrôle automatique Matériau de revêtement: Acier inoxydable, alliage métallique, céramique, verre etc. Hcvac, Dongguan, Chine Forfait Transport: Conteneur de 20 pieds ou 40 pieds Origine: Chine, machine d'enduction PVD plasma / Guangdong / Machine de dépôt sous vide plasma / machine de dépôt sous vide plasma \ nCette machine intègre principalement la technologie de l'évaporation d'ions le biais d'impulsion Tension. C'est un contrôle automatisé complet lors du revêtement de films. Le revêtement sera une bonne adhérence, résistant aux rayures. \ N \ n \ n \ nLe principe du revêtement ionique par arc électrique sous vide est basé sur la cathode froide, l'évaporation par plasma à décharge en arc auto-entretenu, le matériau d'ionisation, combine la polarisation pulsée technique pour améliorer l'énergie et l'activité des particules déposées et améliore les propriétés du revêtement. Il peut déposer des revêtements à la surface du métal ainsi que des non-métaux. \ N \ n \ n \ nApplications: Il est largement utilisé dans le bracelet de montre, boîtier, bijoux, coque mobile, quincaillerie, vaisselle, etc. Il peut recouvrir TiN, TiC, TiCN, TiAlN, CrN, Cu, Au, Al2O3 et autres films décoratifs. Il peut obtenir une finesse et un film lisse, une bonne adhérence. Effet de Samplescoating! \ N \ n \ n \ nLes experts en revêtements de votre entreprise: Solution complète pour la production de revêtements. \ n \ nLe HCVAC peut vous aider à pénétrer facilement le revêtement PVD grâce à notre machine de revêtement sous vide et à notre gamme complète. Nous fournirons la technologie la plus adaptée à vos besoins. \ N \ nNous allons fabriquer la solution de revêtement spéciale pour chaque client; Combinez l'ensemble des techniques de production pour répondre à vos besoins, afin d'assurer une efficacité élevée de la production. \ N \ n \ nFacile à mettre en œuvre \ n \ nPour beaucoup de personnes peu familiarisées avec le procédé, la technologie de revêtement PVD semble compliquée. Cependant, avec les bons investissements et un bon support, c'est plus facile que prévu. HCVAC a mis au point un procédé de revêtement clé en main qui facilite la mise en œuvre d'un centre de revêtement PVD. Un processus de revêtement complet comprend plusieurs étapes: Décapage (en fonction de l'historique de la pièce); Prétraitement; Contrôle de qualité; Nettoyage et séchage; Fixturing & inspection visuelle; Revêtement PVD; Contrôle qualité et mesure d'épaisseur et post-traitement (en fonction de l'application). Ces étapes sont toutes disponibles auprès d'un seul partenaire: HCVAC Technology, y compris des techniques et des revêtements matures. \ N \ nNous avons développé un système complet après-vente et des mesures de service efficaces. La société possède désormais une équipe de service après-vente professionnelle composée de plus de dix ingénieurs expérimentés. La norme ISO 9001 garantit que la qualité peut répondre aux exigences du client. N'hésitez pas à nous contacter pour de plus amples informations! : Lillian Yang \ n \ nMobile: 0086-13825720037 \ n \ n \ nParamètre technique: \ n

Mode Dimension	JTL-900	JTL-1100	JTL-1250
	900*1000mm	1100*1000mm	1250*1100mm
Coating mode and main confirguration	Six multi-arc targets + one set of column targets + one set of plane rectangle magnetron sputtering targets	Six multi-arc targets + a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets	Twelve multi-arc targets + two sets of  plane rectangle magnetron sputtering targets+ a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets
Power source	Electric arc power, DC magnetron power, MF magnetron power, filament power, pulse power, linear ionized source.
Process gas control	Quality flowmeter + electromagnetism ceramic valve
Vacuum chamber structure	Vertical single(side) door, pump system postposition, double water-cooling
Vacuum system	Molecule pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10 -5 Pa) Diffusion pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10 -4 Pa)
Workpiece baking temperature	Normal temperature to 350 centi-degree PID control, radiation heating.
Workpiece motion mode	Public rotation Frequency control: 0-20 rotation per minute
Measure mode	Number display composite vacuum gauge: from atmosphere to 1.0*10 -5 Pa
Control mode	Manual/Automatic/PC/PLC + HMI/PC  four choice of control mode
Remark	We can design the dimension of the equipment according to customer's special technique requirement.

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Groupes de Produits : Machine de revêtement de pulvérisation magnétron