Machine de revêtement de vide de PVD or / argent / or rose / bleu / noir pour des montres
Informations de base
Modèle: JTL-series
Description du produit
N ° de Modèle: Revêtement de la série JTL: Revêtement sous vide Condition: Nouveau Application: Revêtement décoratif, Largement utilisé dans le revêtement Technologie de revêtement de bijoux: Placage ionique à l'arc, pulvérisation au magnétron, plasma Spécifications: ISO9001, CE Code SH: 85433000 Type: Revêtement Ligne de production Substrat : Acier Type d'entreprise: Fabrication + Commerce Marque: Huicheng Marque: HUICHENG Origine: Chine, Guangdong Bijoux PVD Coating Machine \ n \ nJewelry PVD Coating Machine intégré trois technologie de pulvérisation cathodique magnétron DC, pulvérisation à moyenne fréquence et l'évaporation d'arc électrique, combinant le linéaire une source d'ionisation et un revêtement de polarisation d'impulsions pour amincir les particules de dépôt. Les différentes performances du film sont améliorées, et sont capables de revêtir un film d'alliage, un film composite, un film composite multicouche sur la surface du métal ainsi que non métallique. Après des années de R & D dédiées par notre ingénieur, à travers des systèmes uniques d'ion d'arc électrique de cathode et de magnétron non équilibré, nous développons un paquet de la série PROPOWER de système de contrôle automatique d'ordinateur. Il rend la densité d'adhésion du film de revêtement ainsi qu'une bonne cohérence complexe, et résout les problèmes de complexité de l'opération manuelle, les incohérences de couleur du film, etc. \ n \ nCaractéristique: \ n \ n1. Le principe de la pulvérisation cathodique magnétron est basé sur la théorie de la décharge luminescente de la cathode, en élargissant le champ magnétique de la surface de la cathode près de la surface de la pièce, pour augmenter la vitesse ionisée des atomes de pulvérisation. Il retient la délicatesse de la pulvérisation cathodique du magnétron et augmente la brillance. \ N \ n2. La performance de la source d'évaporation du plasma électrique est fiable, capable de travailler sous le courant 30A quand optimiser la cathode et le revêtement de la structure du champ magnétique, et le film de revêtement et l'interface du substrat produisent la diffusion atomique. \ n \ n \ n \ nIndustrie appliquée: L'équipement est employé couramment dans les horloges d'IPG, les montres et les montres d'IPS, IP de pistolets, coquille de téléphone portable, matériel, articles sanitaires, coupeurs, outils anti-frottement, matrices et moule, etc. peut revêtir TiN, TiCN, CrN, TiALN, TiNbu, TiCrN, ZrN, et divers types de film de diamants (DLC). \ n \ n \ nDiscription: La machine de revêtement sous vide PVD ion intégrée trois technologie de pulvérisation cathodique magnétron DC, pulvérisation à moyenne fréquence et évaporation d'ions d'arc électrique, combinant la source d'ionisation linéaire et le revêtement de polarisation d'impulsion pour amincir les particules de dépôt \ n \ nMarque: \ n1-Nous pouvons faire la conception de la dimension de l'équipement selon la technique particulière du client. machine de revêtement sous vide ines sont les produits de la production environnementale, qui remplaceront les industries traditionnelles de galvanisation à l'avenir.
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Mode Dimension | JTL-900 | JTL-1100 | JTL-1250 |
900*1000mm | 1100*1000mm | 1250*1100mm | |
Coating mode and main confirguration | Six multi-arc targets + one set of column targets + one set of plane rectangle magnetron sputtering targets | Six multi-arc targets + a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets | Twelve multi-arc targets + two sets of plane rectangle magnetron sputtering targets + a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets |
Power source | Electric arc power, DC magnetron power, MF magnetron power, filament power, pulse power, linear ionized source. | ||
Process gas control | Quality flowmeter + electromagnetism ceramic valve | ||
Vacuum chamber structure | Vertical single(side) door, pump system postposition, double water-cooling | ||
Vacuum system | Molecule pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10-5Pa) Diffusion pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10-4Pa) | ||
Workpiece baking temperature | Normal temperature to 350 centi-degree PID control, radiation heating. | ||
Workpiece motion mode | Public rotation Frequency control: 0-20 rotation per minute | ||
Measure mode | Number display composite vacuum gauge: from atmosphere to 1.0*10-5Pa | ||
Control mode | Manual/Automatic/PC/PLC + HMI/PC four choice of control mode | ||
Remark | We can design the dimension of the equipment according to customer's special technique requirement. |
Groupes de Produits : Machine de revêtement de pulvérisation magnétron
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